Gal kas patikslinų ką čia rašo(dėl fotoresisto)?

If low-boiling solvents are required, acetone or MEK are suitable for 
resist dilution.
Isopropyl alcohol may deteriorate the resist and is therefore NOT a 
suited solvent


On 2016-06-23 21:54, Sigitas wrote:
> Ačiū už atsakymą - niekas netiks...:(
>
> O į kurią grupę tiktų toks klausimas... buidings??
>
>
>
> On 2016-06-23 21:39, ejs wrote:
>> dar į omnitel.autos.mezgimas
>